中化新网讯近日，湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”被湖北兴福电子以4626.78万元收购，即将投入生产。在芯片制造过程中，光刻胶如同相机的“底片”，而此次转让的成果G/I线光刻胶用光引发剂的关键技术，则能决定光刻胶的感光度和分辨率。近年来，由于进口光引发剂不时面临限购和断供，国内多家光刻胶生产企业生产受阻。主攻芯片蚀刻电子级磷酸、电子级硫酸等产品的兴福电子公司向以微电子新材料为主要研究方向的三峡实验室提出研发需求。在历经3年研发攻坚后，相关技术终于具备产业化条件。目前，该成果已进入产业化前期阶段。湖北三峡实验室光刻胶用光引发剂项目负责人、博士周钢翔表示：“我们主要面向国内成熟制程、芯片制造及面板制造行业。国内目前新能源汽车发展迅速，有大量的芯片都需要用到我们G/I线光刻胶，目前这款产品在国内的配方国产化率是最高的。”湖北三峡实验室主任池汝安表示：“我们实验室一直都是企业出题、实验室答题，把科研成果更好地转化落地。以后，国内的光刻胶厂生产光刻胶的时候，不仅不受制于人，并且成本可以降低30%。”